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              工艺平台
              Process platform
              BCD

              1.BD10,1.0μm 40V BCD

              BD10工艺是中科渝芯BCD工艺平台之一。工艺平台提供双极晶体管,常规及隔离5V CMOS, 40V高压CMOS器件以及多晶高阻和齐纳二极管等器件,应用于数?;旌系母哐共?。为了节省芯片面积,工艺提供1.0μm 前端0.5μm后端设计规则。详尽的设计规则,精确的SPICE模型,DRC和LVS工具包可以支持主要的EDA软件工具。

              工艺特征:

              1.0μm 前端设计, 0.5μm 后端设计;

              外延隔离工艺;

              厚薄栅氧,单层多晶,双层金属布线;

               HV CMOS 提供Vgs/Vds=5V/40V或Vgs/Vds=40V/40V器件;

              多晶高阻1K/2K/3K 可??;

              多晶高阻、齐纳二极管可选,HV CMOS提供客制化需求;

              典型应用:

              (1) DC-DC 转换电路;

              (2) 电源管理电路;

              (3) 锂电?;さ缏?;

              (4) LED驱动电路;


              2.BD10H,1.0μm 700V BCD

              1.0μm 700V BCD 是中科渝芯标准超高压工艺平台。工艺平台提供常规及隔离5V CMOS, 40V中压CMOS,500V/600V/700超高压LDMOS,700V Dep-MOS,700V NJFET,双极型晶体管,多晶高阻和齐纳二极管等器件??晒惴河τ糜诶胂呤降缭醋恍酒?、LED照明驱动芯片类绿色单片智能功率集成电路产品。

              工艺特征:

              1.0μm 前端设计, 0.5μm 后端设计;

              P外延隔离工艺;

              ??榛ひ眨?5V 低压CMOS???, 40V中压CMOS???,500V/600V/700高压DMOS???;

              灵活的高压启动器件方案:700V Dep-MOS/700V NJFET;

              可选器件:多晶高阻、齐纳管、客制化超高压LDMOS IP;

              顶层金属厚度可??;

              典型应用:

              (1) AC-DC 转换电路

              (2) LED照明驱动电路;


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